在电子工业中，高纯度氩气主要用于半导体制造过程中的保护气氛、等离子体刻蚀以及化学气相沉积（CVD）等工艺。

这些应用对气体的纯度要求非常高，因为即使是微量杂质也可能影响最终产品的性能和可靠性。以下是针对电子工业用高纯度氩气纯度检测的一些关键信息：

 检测标准

 国际标准：ISO 14687系列提供了氢气质量的标准，但其中的方法可以适用于其他气体杂质分析；另外，ISO 14593《焊接及相关工艺  氩及混合气体》也涉及了氩气的质量。

 国家标准：中国有GB/T 287272012《高纯氩》，该标准规定了高纯氩的技术要求、试验方法、检验规则等。

 行业标准：SEMI（半导体设备与材料国际组织）制定了许多关于电子级气体的标准，例如SEMI F20《电子级稀有气体》。

 检测项目

 主成分纯度：通常要求达到99.999%（5N）以上，甚至更高如99.9999%（6N）。

 氧气含量：一般要求低于几个ppb（十亿分之一）级别。

 水分（露点）：通常控制在70°C以下。

 总烃类物质：包括甲烷、乙烷等碳氢化合物，含量需极低。

 颗粒物：对于微粒的数量和大小有严格限制。

 其他可能存在的杂质：如二氧化碳、一氧化碳等。

 检测流程

1. 样品采集：

    使用专用的不锈钢或玻璃容器进行取样，确保容器清洁且无污染。

    取样过程中应避免空气或其他污染物进入容器内。

2. 仪器准备：

    根据需要选择适当的分析设备，常见的包括气相色谱仪（GC）、质谱仪（MS）、红外光谱仪（IR）、激光粒子计数器等。

    对所有仪器进行校准，并确认其处于良好工作状态。

3. 测试执行：

    气相色谱法：用于测定氧、氮、甲烷等杂质。

    质谱法：可提供更详细的杂质成分分析。

    露点测量：使用冷镜式露点仪或其他类型的露点仪来测定水蒸气含量。

    颗粒计数：通过激光散射原理的粒子计数器来检测颗粒物数量和尺寸分布。

4. 数据分析：

    记录各项检测结果，并与相关标准对比。

    分析数据是否符合规定的纯度等级。

5. 报告编制：

    整理所有实验数据，编写正式的质量检验报告。

    报告中应包含样品信息、检测条件、使用的仪器型号及编号、检测结果及其单位、结论等内容。

 注意事项

 安全操作：处理高压气体时要遵守所有相关的安全规程，穿戴适当的个人防护装备。

 防止污染：在整个采样和检测过程中，必须采取措施防止外部环境对样品造成污染。

 定期维护：定期对检测设备进行维护和校正，以确保其准确性和可靠性。

 专业培训：进行氩气纯度检测的操作人员应当接受专门的培训，熟悉所使用的所有仪器和检测方法。

 持续更新：关注最新的技术发展和法规变化，及时更新检测程序和技术。